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          氣體知識(shí)

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          電子氣體在高新技術(shù)中的應(yīng)用

          2012-2-14 15:23:42

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              進(jìn)入20世紀(jì)90年代以后,隨著我國(guó)高新技術(shù)的快速發(fā)展,計(jì)算機(jī)工業(yè)對(duì)大規(guī)模集成電路、液晶顯示器的需求大量增加;隨著新型能源的發(fā)展,我國(guó)大力開拓了多晶硅太陽(yáng)能電池和薄膜太陽(yáng)能電池的生產(chǎn);此外,新型電光源、光電半導(dǎo)體器件(GaAs、InP、AlGaAs)、光纖通訊器件也獲得迅猛發(fā)展,在上述高新產(chǎn)品的生產(chǎn)中,都需要大量高純氣體,以制造出性能可靠的各種器件。
           
          大規(guī)模集成電路
          化學(xué)氣相沉淀:SiH4NH3,O2N2O,TEOS(四乙氧基硅)
          化學(xué)刻蝕:CF4SF6,NF3Cl2,CCl,BCl3KrF,ArF,HBr,HCl
          化學(xué)摻雜:BF3B2H6PH3AsH3
           
          液晶屏
          化學(xué)氣相沉淀:SiH4,SiNx
          化學(xué)刻蝕:SF6HCl,Cl2
           
          太陽(yáng)能電池
          化學(xué)氣相沉淀:SiH4PH3NF3
          擴(kuò)散、刻蝕:POCl3,O2CF4
           
          光電半導(dǎo)體
          化學(xué)氣相沉淀:AsH3,PH3NH3,N2H2
          化學(xué)刻蝕:BCl3Cl2
           
          光導(dǎo)纖維
          化學(xué)氣相沉淀:SiH4,SiCl4D2,GeCl4
          化學(xué)刻蝕:CF4,KrF,ArF,Cl2SF6

           
          相關(guān)產(chǎn)品
           
           
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